齐齐哈尔我国在洁净工程的发展状况

我国的洁净技术和设备与国外先进国家相比相距是明显的，我国1965年才开始生产(Produce)的HEPA，经国外晚了
十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0。1微米洁净技术和设备在国际上先
进国家已成为成熟技术，我国则刚刚起步。

世界各工业先进国家为适应超净技术的发展，对大量使用的高效过滤器的研究（research)从未中断，几年来一起在开
发不同结构不同性能的新产品，美国自1979年开始研制0。1微米ULPA过滤器(作用:过滤杂质等)，1984攫美国AAF公司开始生产
0。1微米无隔板ULPA过滤器，目前，为0。1微米ULPA过滤器在美国 AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDG
公司已形成商品生产。净化设备控制产品 (如硅芯片等) 所接触之大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造。此空间的设计施工过程即可称为净化工程。日本也已成为世界上生产0。1微米ULPA过渡器厂家最多的国家，品种繁多，产品系列
化，尤其是低压损型0。1微米ULPA过滤器(作用:过滤杂质等)的开发成功解决了初阻力大的技术难题。国际市场对高效空气过渡
器的需要量很大，且每年均有增长，目前日本每年销售(Sales)超过100万台，按每台平均价格200美元(USD)计算，销售
额达2亿美元(USD)。我国高效空气过渡器的需要量已接近每年10万台，占国际市场的2%~4%，但至今还没有
0。1微米ULPA过渡（transition)器生产，用于越大规模集成电路生产洁净厂房及各种高科技领域洁净厂房的0。1微米
ULPA过滤器(作用:过滤杂质等)目前还依赖进口。

在洁净室建设规模的技术水平上，我国与先进国家差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年
期间承建的洁净室面积达81。8万平方米，而这期间，我国一年承建的洁净室总面积还不到10万平米，但八五
期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计
已达188。风淋室是指控制产品 (如硅芯片等) 所接触大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好的环境空间中生产、制造。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。5万平方米。在洁净室工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0。1微米级的超净室，1987年
日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制（control)0。1微米尘埃的千级
厂房，换气次数高达300次/分。

美国在台湾的TSMCS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。我国使用的0。1微米十级洁
净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0。1微米十级洁净室每平方米造价高达
1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的投资(意义:是未来收益的累积)中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更
新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。美国
ASYAT公司、德国MW公司发展的使用隔离技术的亚微米环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。
该项最新的洁净技在100级洁净度的洁净厂房中，采用工艺设备局部（part)使用隔离技术的微环境，把投资(意义:是未来收益的累积)比例
压缩到高级别的微环境，消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源生产对集成电路成品率和可靠性的影
响作用。

洁净技术和装备的国际市场十分巨大，日本到80年代末、90年代初洁净技术和设备的销售额已突破35亿
美元(USD)。美国和西欧等先进国家洁净设备的基础部件的销售(Sales)额忆达73亿美元。据中国电子专用设备工业协会
统计，我国主要八家最大的净化设备厂的销售额在1990年为8217万无，还不足1亿，1993年达到14495万元。消毒器对于净化空调系统的加湿问题而言，常用的加湿方法有很多种，有淋水、湿膜、高压喷雾超声波等水加湿，这些加湿方法属等焓加湿过程。而喷蒸汽、喷干蒸汽和电极（电热）加湿是向空调送风中喷蒸汽，其加湿方法属等温加湿过程。
占国际市场销售额的0。34%。但随着我国高新技术的迅速发展和微电子工业、光纤工业、液晶显示工业及光
电器件工业、生物工程、医药工业的发展，我国潜在的巨大的洁净技术产品市场，以每年40%~50%的增长
速度在增加。